重大突破：中国开始批量生产自主研发的DUV光刻机

据美国科技商业媒体《信息报》本周一报道，中国已开始小规模批量生产自主研发的浸没式深紫外（DUV）光刻机，标志着中国在减少对外国技术依赖的进程中迈出了关键一步。该类关键的芯片制造设备长期以来一直由荷兰供应商阿斯麦（ASML）主导。