业内分析称中国国产DUV光刻机短时间内尚无法对ASML造成威胁

据路透社等媒体报道，中国国有企业上海爱晟纳电子科技集团联合上海微电子装备（SMEE）及上海电气集团等机构，在国产深度紫外（DUV）芯片制造设备领域取得了最新技术突破。尽管该项进展在社会层面引发了广泛关注，但行业分析报告指出，国产DUV浸没式光刻机短期内依然难以对全球行业巨头阿斯麦（ASML）的既有市场地位构成直接威胁。 阅读全文