美光又被起诉：纽约晶圆厂永久化学品恐流入奥奈达河

IT之家 8 月 4 日消息，美光（Micron）位于纽约州克莱（Clay）的制造基地项目再次成为环境诉讼的焦点。该项目计划建设四座独立晶圆厂，而反对该项目的组织“更好的美光邻居”（Neighbors for a Better Micron）和“美国就业转移组织”（Jobs to Move America）近日提起新的诉讼。这两个组织正是今年 1 月曾针对美光提起另一项诉讼的原告。两家组织于当地时间上周五提交的新诉状称，纽约州批准的废水排放许可证和空气排放许可证无效，这些许可将允许美光向奥奈达河（Oneida River）排放被称为“永久化学物质”的污染物。诉状中写道：“这些许可证是在美光项目依据《纽约州环境质量审查法》（SEQRA）进行审查过程中，已经确认存在重大环境影响的背景下颁发的，包括 PFAS（全氟和多氟烷基物质）以及其他高度持久性和危险化学物质的释放。”诉状继续指出：“在最终批准之前，相关部门并未对这些影响进行全面且有意义的评估，也未采取必要的保护措施。相反，纽约州环境保护部门（DEC）颁发的许可证将关键分析、控制措施、限制条件以及污染缓解决策推迟到了许可证发放之后，或者等待未来法规和研究出台后再处理。”此次诉讼将纽约州环境保护部门（DEC）、美光以及项目所在地奥农达加县（Onondaga County）列为被告。原告认为，尽管美光已经从 DEC 获得废水和空气排放许可证，但这些许可证并不足以有效监管工厂产生的污染排放。诉状中一方面称，这些许可证“并不是普通的运营批准文件”；另一方面指出，许可证中存在的宽松规定“并非无关紧要的程序性或技术性遗漏”。PFAS，即全氟和多氟烷基物质，也被称为“永久化学物质”，是一类人工合成化学物质，对于半导体制造至关重要。这类化学物质几乎贯穿整个芯片制造流程，因此需要严格的水污染和空气排放管理，才能符合环保法规要求。诉状指出：“SPDES（纽约州污染物排放消除系统）许可证允许接收并排放含有已确认新兴污染物的美光工业废水，其中包括 PFAS 化合物，但该许可证除了监测这些有害污染物的存在和浓度之外，并未对其实施实质性的控制措施。”IT之家注意到，今年 1 月，参与此次诉讼的两家组织已经针对美光提起另一项诉讼，指控该项目未能遵守纽约州环境审查程序。上个月，美光向法官申请驳回该诉讼。不过，该案件仍计划于 8 月 25 日进行口头辩论。目前，这起新的环境诉讼尚未确定口头辩论日期（如果案件最终进入这一阶段的话）。原告希望法院撤销美光获得的废水和空气排放许可证，这将迫使该项目重新进入环境审查流程，同时要求被告承担相关诉讼费用。