ASML公布下一代Hyper-NA EUV光刻机 可支撑“0.7nm” 之后更先进制程

在全球AI算力需求持续井喷的当下，先进制程的产能瓶颈始终绕不开光刻机这道关。当地时间6月17日，全球唯一EUV光刻机供应商ASML在SPIE EUVL 2026大会上公布最新技术路线图，一边加速推进0.55NA High-NA EUV大规模量产，一边正式抛出下一代Hyper-NA长期蓝图，这也让外界再次聚焦中国半导体的追赶路径。 阅读全文